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基于AFM光刻的复合等离子体纳米粒子结构的制备


10th新兴材料与纳米技术国际会议

2017年7月27日至29日,加拿大温哥华

坚美陈

苏州大学,中国

海报和接受的摘要:Res. Rev. J Mat. science

DOI:10.4172 / 2321 - 6212 c1 - 003

摘要

将等离子体纳米粒子精确定位为具有高可控性和可重复性的多路纳米结构对新兴的先进器件应用具有重要作用。许多用于生产多路复用纳米结构的技术都受到复杂的制造工艺和难以扩展的限制。在这里,这项工作报告了一种可扩展的策略,通过AFM光刻机械划痕来制造多重等离子体纳米颗粒结构。在聚合物抗蚀剂的辅助下,组装在硅衬底上的金纳米颗粒可被AFM尖端直接划伤形成清晰的纳米结构,不同大小或形状的金纳米颗粒可在去除聚合物后以1000 μm/s的高速可控划伤,并保持颗粒阵列的完整性。通过精确控制刻划加载力,可以进一步实现等离子体纳米粒子的复相结构,从而表现出多重等离子体特性和表面增强拉曼散射(SERS)响应。当多路复用纳米结构进一步集成到有机发光二极管器件中时,可以直观地表达多路复用等离子体对器件性能的影响。这为多层组装技术在多路SERS响应中的应用或等离子体增强器件的探索提供了一个新的方向。

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